ultraviolet lithography中文是什么意思

• 紫外线光刻

• "ultraviolet"中文翻译    adj. 【物理学】紫外的；紫外线的；产生[应用]紫外线 ...
• "lithography"中文翻译    n. 石印〔平版印刷〕术；平版印刷品。
• "euv(extreme ultraviolet lithography" 中文翻译 :    极端紫外平版印刷
• "extreme ultraviolet lithography" 中文翻译 :    超紫外线光刻技术; 超紫外线蚀刻技术; 印刷技术; 远紫外线金属版印刷,远紫外光刻
• "near ultraviolet lithography" 中文翻译 :    近紫外光刻
• "lithography" 中文翻译 :    n. 石印〔平版印刷〕术；平版印刷品。
• "ultraviolet" 中文翻译 :    adj. 【物理学】紫外的；紫外线的；产生[应用]紫外线的。 n. 紫外线辐射。
• "beam lithography" 中文翻译 :    射束刻蚀法
• "beamwriter lithography" 中文翻译 :    电子束光刻
• "contact lithography" 中文翻译 :    接触光蚀刻
• "contactless lithography" 中文翻译 :    无接触光蚀刻
• "deuv lithography" 中文翻译 :    深紫外光刻
• "diazo-lithography" 中文翻译 :    重氮盐平版印刷
• "direct lithography" 中文翻译 :    直接平印
• "gla for lithography" 中文翻译 :    平版印刷用玻璃
• "glass for lithography" 中文翻译 :    平板印刷用玻璃; 平版印刷用玻璃
• "laser lithography" 中文翻译 :    激光蚀刻
• "lithography machine" 中文翻译 :    光刻机
• "lithography optical" 中文翻译 :    光学平版刻法
• "lithography oven" 中文翻译 :    印铁烘房
• "lithography roll" 中文翻译 :    平印胶辊; 石印胶辊; 石印胶滚
• "mask lithography" 中文翻译 :    掩模光刻
• "micron lithography" 中文翻译 :    微米结构光刻
• "nanoimprint lithography" 中文翻译 :    奈米压印微影术; 奈米印刷技术
• "nanometric lithography" 中文翻译 :    毫微米微影术

• Euv extreme ultraviolet lithography
  极端紫外平版印刷
• Some of the techniques ( for example , advanced ultraviolet lithography for chip production ) will probably become commercial realities
  某些技术，例如拿来生产晶片的高阶紫外光蚀刻法，很可能会受到业者广泛使用。
• Silicon grating is a period construction fabricated on the silicon wafer by micro fabrication techniques as ultraviolet lithography and anisotropic etching
  硅光栅是利用紫外光刻、各向异性腐蚀等硅微加工技术在硅片上制作的周期结构。
• Extreme ultraviolet lithography is being developed as one of the most important candidates to fabricate a sub - o . lum - pattern . in recent years , several key technologies have been developed rapidly such as laser producing plasma source , extreme ultraviolet multilayer , optical fabrication and metrology , projection - camara alignment , low - defect mask and control technology of stage
  极紫外投影光刻( extremeultravioletlithography简称euvl )最有可能成为下一世纪生产线宽小于0 . 1 m集成电路的技术，近年来在激光等离子体光源、极紫外多层膜、光学加工和检测、光学精密装调、低缺陷掩模、光刻胶技术以及高稳定工作台系统控制等关键技术方面得到了飞速发展。
• Extreme ultraviolet lithography ( euvl ) represents one of the promising technologies for supporting integrated circuit ( 1c ) industry ' s lithography needs during the first decade of the 21st century . this technology builds on conventional optical lithography experience and infrastructure , uses 11 - to 14 - nm photon illumination , and is expected to support multiple technology generation from 65 nm to 35 nm
  极紫外投影光刻( euvl ， extremeultravioletlithography )技术作为下一代光刻技术中最佳候选技术，建立于可见/紫外光学光刻的诸多关键单元技术基础之上，工作波长为11 14nm ，适用于制造特征尺寸为65 35nm的数代超大规模集成电路，预计在2006年将成为主流光刻技术。

• ultraviolet lithography перевод